mos管栅极电压（mos管栅极电压控制漏极电流对吗）

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什么是栅源电压?

1、栅源电压是指场效应管的栅极（G）与源极（S）之间的电压。场效应管是类似于电子管性能的一种半导体器件，是电压控制型的器件，输入阻抗很高，栅源电压影响输出电流的变化，场效应晶体管的英文简称为FET，中文简称为场效应管或者单极型晶体管。

2、栅源电压：栅极和源极两端的电压。栅极（Gate——G，也叫做门极），源极（Source——S）， 漏极（Drain——D）将两个P区的引出线连在一起作为一个电极，称为栅极，在N型硅片两端各引出一个电极，分别称为源极和漏极，很薄的N区称为导电沟道。

3、栅源电压是指MOS管栅极和源极之间的电压差，当栅源电压加倍时，MOS管的电流会增加，这是因为栅源电压越高，MOS管的导通越好，电流就会更大，同时栅源电压还会影响MOS管的阈值电压，即使电流增加，MOS管的阈值电压也可能会发生变化。

MOS管栅极电压选择技巧

1、电路中MOS管的开启电压选取，需考虑管子特性与电路需求。对于特定的NMOS管，其VGS范围为正负20V，而阈值电压（VGSth）在0.8V至5V之间变动。选择合适的栅极电压时，需关注以下几点：功耗、稳定性与噪声裕量。理想电压通常设置为VGSth的最大值加上一定裕量，确保MOS管稳定导通且考虑功耗因素。

2、mos栅极电压最好要在12V左右，这个电压月底，导通损耗越大。直接用3V或者5V驱动不会完全导通，一般最小不要小于8V。那么mos管导通。栅极的正电压推出来一天道来让源极和漏极相通。

3、MOS管栅极电阻的选取可以通过以下步骤进行：确定电路的工作电压 range。确定工作状态下 MOSFET 的最大电流。根据最大电流和工作电压确定 MOSFET 的额定功率。通过选择电阻值来将功耗限制在额定范围内。一般情况下，电阻的额定功率应为 MOSFET 的额定功率的两倍。

mos管的栅极有电流通过吗?

1、栅极是MOS管的控制端，通过施加电压来改变MOS管的导电状态。当栅极电压为零时，MOS管处于截止状态，源极和漏极之间几乎没有电流通过。而当栅极电压达到一定值时，MOS管开始导通，源极和漏极之间形成导电通道，允许电流通过。源极是MOS管的输入端，通常与电源或信号源相连。

2、mos管属于电压控制型的器件，输入内阻很高，类似真空电子管。当栅极电压低于阈值电压以下，栅极电流极小，可以忽略，当栅极电压高于阈值电压以上，栅极电流随栅极电压升高而上升。

3、栅极控制源极和漏极间的电流，MOS导通后源和漏之间形成沟道，电流可以在沟道中流动，n管是漏流向源，p管相反。而MOS栅极一端是多晶硅，绝缘的，没电流，只是控制沟道电流的大小，就像水龙头一样。

4、栅极是场效应晶体管控制电流的主要电极。在MOS管中，通过施加电压在栅极上，可以控制源极和漏极之间的通道，从而控制电流的流动。简单来说，栅极就像是一个开关，调节电流的开关。源极 源极是场效应晶体管中电流流出的电极。

mos管的栅极电压大于0v时就可以导通

MOS管的导通状态主要取决于栅极电压的大小。当栅极电压大于0V时，即栅极相对于源极的电压为正时，会在半导体基底中形成一个导电沟道，使得漏极和源极之间的电流可以流通，此时MOS管处于导通状态。栅极电压越高，导电沟道的宽度越大，通过的电流也就越大。

MOS管的导通条件取决于栅极和源极之间的电压。当栅极和源极之间的电压大于阈值电压时，MOS管会导通。在N沟道MOS中，当栅极电压高于源极电压加上阈值电压时，NMOS管导通；而在P沟道MOS中，当栅极电压低于源极电压减去阈值电压时，PMOS管导通。

电压：MOSFET的导通电压为VGS，即栅极加正电压（VD），由于MOS管是场效应晶体管，其输入电阻很小，只要VGS大于VD就可以使MOSFET导通。

工作是什么意思？就是起作用，起到我们想要它实现得功能得作用，当然就是导通得意思。从结构上看，N沟道耗尽型MOS管与N沟道增强型MOS管基本相似，其区别仅在于栅－源极间电压vGS=0时，耗尽型MOS管中的漏－源极间已有导电沟道产生，而增强型MOS管要在vGS≥VT时才出现导电沟道。

mos管的栅源电压和漏源电压加倍的效果有啥不同

对MOS管的工作产生的影响不同。栅源电压是指MOS管栅极和源极之间的电压差，当栅源电压加倍时，MOS管的电流会增加，这是因为栅源电压越高，MOS管的导通越好，电流就会更大，同时栅源电压还会影响MOS管的阈值电压，即使电流增加，MOS管的阈值电压也可能会发生变化。

其次，RDSN是漏源电阻，表示漏极和源极之间的电阻。当MOS管处于导通状态时，RDSN的大小会影响漏极电流的大小。一般来说，RDSN越小，漏极电流越大，MOS管的导通能力越强。然后，我们需要理解栅极电压对RDSN的影响。当栅极电压增加时，导电沟道的宽度增加，使得漏极和源极之间的电阻减小，即RDSN减小。

电流流向不同。把两边的P区引出电极并连在一起称为栅极G。如果在漏、源极间加上正向电压，N区中的多子（也就是电子）可以导电。它们从源极S出发，流向漏极D。作用不同。电流方向由D指向S，称为漏极电流ID．。由于导电沟道是N型的，故称为N沟道结型场效应管。

N--D之间电压应符合耐压极限参数，超出太多当然容易击穿损坏的。具体可查你选用元件手册。

当栅极和源极加上超过门限电压的电压的时候，漏源极才能处于导通状态。不同的MOSFET，门槛电压不一样，一般设计栅源极电压在15V左右，特别在作为开关管运用的时候。

漏极电流Id与漏源电压Vds和栅源电压Vgs皆有关系。以N沟道增强型MOS管为例：当Vgs一定时，Id随Vds的增大出现先增大再恒定最后激增的现象；当VgsVgsth增加时，Id也随之呈增大趋势。以上是宏观特性，其微观特性依据沟道间导电层的厚度决定。

nMOS管栅极电压

1、nMOS：Vth=0.7V ，pMOS：Vth=-0.8V。MOSFET阈值电压V是金属栅下面的半导体表面出现强反型、从而出现导电沟道时所需加的栅源电压。由于刚出现强反型时，表面沟道中的导电电子很少，反型层的导电能力较弱，因此，漏电流也比较小。

2、NMOS管的工作状态主要分为以下几类：截止状态： 当NMOS管的栅极电压低于阈值电压时，NMOS管处于截止状态。在此状态下，栅极和漏极之间的通道断开，导致漏极和源极之间没有电流流动。

3、G：gate 栅极；S：source 源极；D：drain 漏极。N沟道的电源一般接在D，输出S，P沟道的电源一般接在S，输出D。增强耗尽接法基本一样。晶体管有N型channel所有它称为N-channel MOS管，或NMOS。P-channel MOS（PMOS）管也存在，是一个由轻掺杂的N型BACKGATE和P型source和drain组成的PMOS管。

4、都会让MOS管的DS持续保持导通。如果电压过高，栅极可能击穿损坏。在测量DS时候，最好将G与S短接，或者GS之间接一个电阻，或者放置在防静电的工作台上。由于MOS过于脆弱，一定保证人体无静电。从你测量的结果看，明显的G存储了电荷并导致DS导通，G的电荷释放后DS又恢复了正常。

5、mos栅极电压最好要在12V左右，这个电压月底，导通损耗越大。直接用3V或者5V驱动不会完全导通，一般最小不要小于8V。那么mos管导通。栅极的正电压推出来一天道来让源极和漏极相通。

6、第二注意的是，普遍用于高端驱动的NMOS，导通时需要是栅极电压大于源极 电压。而高端驱动的MOS管导通时源极电压与漏极电压（VCC）相同，所以这时栅极电压要比VCC大4V或10V。如果在同一个系统里，要得到比VCC大的电压，就要专门的升压电路了。

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